M Plan Apo HR 10×378-788-4三豐明視場(chǎng)物鏡

 明視場(chǎng)用物鏡
M Plan Apo /
M Plan Apo HR
VMU WIDE VMU FS70 MF-U Hyper MF-U

 ·無(wú)限遠(yuǎn)校正
·明視場(chǎng)觀察用
·長(zhǎng)工作距離
·平場(chǎng)復(fù)消色差規(guī)格

 M Plan Apo HR
M Plan Apo HR 5× ※3 378-787-4 0.21 25.5 40 1.3 6.2 4.8 0.96×1.28 285
M Plan Apo HR 10× ※3 378-788-4 0.42 15.0 20 0.7 1.60 2.4 0.48×0.64 460
M Plan Apo HR 50× 378-814-4 0.75 5.2 4 0.4 0.49 0.48 0.10×0.13 400
M Plan Apo HR 100× 378-815-4 0.90 1.3 2 0.3 0.34 0.24 0.05×0.06 410

 上述規(guī)格欄中的分辨力和物鏡單體焦深是根據(jù)基準(zhǔn)波長(zhǎng)(λ＝0.55μm)計(jì)算得出的值。
觀察反射率較低的檢測(cè)對(duì)象時(shí)，建議搭配使用與所用顯微鏡相對(duì)應(yīng)的偏光裝置。
 觀察反射率較低的檢測(cè)對(duì)象時(shí)，建議搭配使用M Plan Apo 2 × 1/4波長(zhǎng)板(No.02ALN370)和偏光裝置。注)工作距離會(huì)縮短4mm。
安裝物鏡單體時(shí)的規(guī)格(根據(jù)顯微鏡的不同，有可能不符合標(biāo)注規(guī)格)。
在垂直反射照明下單獨(dú)使用時(shí)，請(qǐng)使物鏡的入射照明光通量達(dá)到16.8mm(物鏡瞳徑)以上。

 顯微鏡單元
物鏡(紫外、近紫外、可視、近紅外)

三豐運(yùn)用自主開(kāi)發(fā)的光學(xué)技術(shù)和長(zhǎng)年積累的精密加工技術(shù)，推出了豐富的顯微鏡單元和物鏡產(chǎn)品陣容
在各個(gè)應(yīng)用領(lǐng)域博得了世界各地用戶的喜愛(ài)。
使用示例： 半導(dǎo)體、電子、液晶相關(guān)等產(chǎn)品的生產(chǎn)
品質(zhì)管理系統(tǒng)、實(shí)驗(yàn)研究裝置使用的光學(xué)系統(tǒng)
外觀檢查系統(tǒng)的嵌入式光學(xué)單元
微生物等運(yùn)動(dòng)物體的觀察 等

可安裝數(shù)碼相機(jī)，通過(guò)外部顯示器進(jìn)行觀察和拍攝。
可實(shí)現(xiàn)橫向水平、上下顛倒等高自由度的固定方法。
與簡(jiǎn)易支架一起使用，還可作為緊湊型顯微鏡使用。
★金屬、樹(shù)脂、印刷面等表面觀察拍攝
★微量流體分析用光學(xué)系統(tǒng)
★以觀察和分析細(xì)胞、微生物等為目的的光學(xué)系統(tǒng)

通過(guò)與YAG激光(1064nm、532nm、355nm、266nm)物鏡組合，可實(shí)現(xiàn)高精度、高
品質(zhì)加工。
與簡(jiǎn)易支架一起使用，還可作為緊湊型顯微鏡使用。
★保護(hù)膜、有機(jī)薄膜等的剝離
★金、鋁等金屬配線切割、下層圖案的外露
★FPD的各種缺陷修正
★光掩模修正
★標(biāo)記、修剪、圖像形成、局部退火、劃線

M Plan Apo HR 10×378-788-4三豐明視場(chǎng)物鏡